Model : NANO-LPM10 (10nm 측정)
반도체 생산에 사용되는 Ultra Pure Water의 Particle을 측정하는 현재의
방법은 Laser Particle Counter를 사용하여 최소 20nm 사이즈 검출까지가
한계 입니다.
이 또한 Counting Efficiency가 몇%에 불과하여 측정 결과에 대한 신뢰성을
담보하기 어렵고, 아울러 Bubble에 의한 간섭 현상으로 Particle detection시
Data 진성, 가성 여부를 항상 살펴봐야하는 문제가 상존합니다.
24시간 모니터링하는 반도체 운영 특성상 Water Particle Data 진성 여부는
매우 중요한 품질이슈입니다.
Nano-LPM10 은 이러한 문제를 완벽히 해결한 신기술 탑재 장비 입니다.
장비구성은 Atomizer, Dryer, 10nm CPC로 구성되었습니다
1. 샘플 Water는 Atomizer에 투입되고 에어로졸화 됩니다.
2. 에어로졸화의 경우, TSI 특허기술을 접목하여 Water내에 있는
NVR(Non Volitile Residue)을 제거하고 실제 Solid Particle만 포함
됩니다.
3. Dryer에서 에어로졸 droplet을 dry 시키면 Solid Particle만 잔존합니다
4. 10nm CPC에서 Solid Particle의 수량을 측정합니다
이러한 신기술로 Bubble에 의한 영향을 없애고, 10nm 사이즈 Particle size 및 50% Efficiency 검출 능력을 구현하였습니다.